- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設(shè)備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗設(shè)備
- 實驗室產(chǎn)品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
本設(shè)備為三源高真空蒸發(fā)鍍膜儀，設(shè)備采用前開門式真空腔體設(shè)計，腔體空間大，可拓展性強，能夠滿足多樣式大尺寸樣品的蒸發(fā)鍍膜。腔體內(nèi)配有上置樣品臺，可根據(jù)用戶樣品樣式選取夾持或卡位式樣品安裝部件。樣品臺可旋轉(zhuǎn)、水冷，所有操作均通過觸控屏集成控制。設(shè)備的真空泵組為兩級式真空系統(tǒng)，由雙極旋片真空泵和渦輪分子泵組成，可為真空鍍膜試驗提供清潔無油的高真空的環(huán)境；真空系統(tǒng)內(nèi)含有完善的氣動閥系統(tǒng)，用戶可通過觸控屏進行一鍵式操作實現(xiàn)抽取真空、不停機取放樣、完全停機等操作。
詳情介紹：
本設(shè)備的蒸發(fā)源共三組，采取鎢舟蒸發(fā)源，水冷式銅電極，加熱溫度*高可達1800℃，可實現(xiàn)多種難熔金屬的蒸鍍，三組獨立熱蒸發(fā)源，不會導(dǎo)致鍍材互相污染。本設(shè)備采用一體化設(shè)計，腔體和電控部分左右分置，實現(xiàn)了水電分離，有力的保證了用戶的**。電控部分采用觸控屏和按鈕面板相結(jié)合的設(shè)計，真空系統(tǒng)、樣品臺等輔助功能通過觸控屏一鍵操作，通電蒸發(fā)、膜厚控制等通過面板獨立操作，在盡可能方便用戶的同時規(guī)避了誤操作的可能。該設(shè)備設(shè)計完善性能優(yōu)越，是實驗室高精度蒸發(fā)鍍膜試驗的必備之選。
三源高真空蒸發(fā)鍍膜儀應(yīng)用領(lǐng)域：
金屬和介電膜,薄膜傳感器的制造,光學元件,納米與微電子,太陽能電池.
真空蒸發(fā)鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：
|
產(chǎn)品名稱 |
三源高真空蒸發(fā)鍍膜儀 |
|
|
產(chǎn)品型號 |
CY-EVH300-III-HHH-SS |
|
|
樣品臺 |
尺寸 |
*大支持φ150mm樣品 |
|
功能 |
可旋轉(zhuǎn)，冷卻 |
|
|
蒸發(fā)源 |
數(shù)量 |
鎢舟x3 |
|
電源 |
每個蒸發(fā)源配一組獨立電源；三個蒸發(fā)源共三組獨立電源 |
|
|
真空腔體 |
腔體尺寸 |
φ300x400mm |
|
觀察窗口 |
前置φ100mm |
|
|
腔體材料 |
304不銹鋼 |
|
|
開啟方式 |
前開門式 |
|
|
膜厚控制（選配） |
晶振式膜厚測量儀，可選多通道膜厚控制儀 |
|
|
真空系統(tǒng) |
前級泵 |
雙極旋片泵 |
|
抽氣接口 |
KF16 |
|
|
次級泵 |
渦輪分子泵 |
|
|
抽氣接口 |
ISO160 |
|
|
真空測量 |
電阻+電離，復(fù)合真空規(guī)
|
|
|
排氣速率 |
機械泵1.1L/s，分子泵 600L/s |
|
|
極限真空 |
1.0E-5Pa |
|
|
供電電源 |
AC 220V 50/60Hz |
|
|
抽氣速率 |
旋片泵：1.1L/S |
|
|
控制系統(tǒng) |
PLC自動控制 操作界面：觸控屏+操作面板 （觸摸屏可控制沉積過程和快速數(shù)據(jù)輸入；用戶友好 PLC 軟件系統(tǒng)，可以通過網(wǎng)絡(luò)更新） |
|
|
其他 |
供電電壓 |
AC220V,50Hz |
|
整機尺寸 |
1200mm X 900mm X 1650mm |
|
|
整機功率 |
5kW |
|
|
整機重量 |
500kg |
|
